アスマ、新型「High NA EUV」設備を出展

SOGO

【アスマが新型「High NA EUV」装置を出展】オランダのフォトリソグラフィメーカー、アスマ（ASML）は現地時間2月9日、アスマのオランダ本社に新型「High NA EUV」フォトリソグラフィを初出展した。同社によると、この設備は主にインテルなどのハイエンド半導体メーカー向けに3億5000万ドルを費やしている。アスマは今年一部を出荷する予定だが、カスタマイズやインストールにはまだ仕事がある。